Виготовлення напівпровідникових приладів й інтегрованих схем - Курсовая работа

бесплатно 0
4.5 115
Технологія виготовлення планарного діода: вхідний контроль, підготовка напівпровідникових пластин, епітаксія, окислювання кремнієвих пластин, фотолітографія, металізація. Скрайбування та розламування пластин на кристали. Розрахунок дифузійного процесу.

Скачать работу Скачать уникальную работу

Чтобы скачать работу, Вы должны пройти проверку:


Аннотация к работе
Реферат Мета роботи - Технологічні процеси виготовлення напівпровідникових приладів й інтегрованих схем (ІС), а також визначити і побудувати основні залежності, які характеризують структуру. Методи дослідження - чисельні розрахунки за відомими, отриманими математичними формулами, що описують особливості структури; використання теоретичних відомостей, що стосуються технології виробництва напівпровідників; використання можливостей ЕОМ для визначення необхідних параметрів і залежностей. Курсовий проект направлений на закріплення теоретичних знань з технологічних основ електроніки і практичне засвоєння методик розрахунку параметрів p-n перехід, характеристик напівпровідникових приладів та побудови ВАХ, для розрахунку топології і визначення структури діоду. В результаті виконання роботи отримано ряд параметрів, а також побудовані залежності, що достатньо повно характеризують даний p-n перехід. Вступ В основі роботи абсолютної більшості напівпровідниковим приладів лежать фізичні явища в електронно-дірковому переход

Вы можете ЗАГРУЗИТЬ и ПОВЫСИТЬ уникальность
своей работы


Новые загруженные работы

Дисциплины научных работ





Хотите, перезвоним вам?