Технологический процесс изготовления полупроводниковой микросхемы с использованием эпитаксиально-планарной технологии - Курсовая работа

бесплатно 0
4.5 225
Характеристика полупроводниковой интегральной микросхемы, методы оценки технологичности ее конструкции. Особенности и достоинства эпитаксиально-планарной технологии. Технологический маршрут изготовления микросхемы. Детальное описание основных операций.


Заказать написание новой работы



Дисциплины научных работ



Хотите, перезвоним вам?