Технологический процесс изготовления полупроводниковой микросхемы с использованием эпитаксиально-планарной технологии - Курсовая работа

бесплатно 0
4.5 225
Характеристика полупроводниковой интегральной микросхемы, методы оценки технологичности ее конструкции. Особенности и достоинства эпитаксиально-планарной технологии. Технологический маршрут изготовления микросхемы. Детальное описание основных операций.

Скачать работу Скачать уникальную работу

Чтобы скачать работу, Вы должны пройти проверку:



Вы можете ЗАГРУЗИТЬ и ПОВЫСИТЬ уникальность
своей работы


Новые загруженные работы

Дисциплины научных работ





Хотите, перезвоним вам?