Характеристика полупроводниковой интегральной микросхемы, методы оценки технологичности ее конструкции. Особенности и достоинства эпитаксиально-планарной технологии. Технологический маршрут изготовления микросхемы. Детальное описание основных операций.
При низкой оригинальности работы "Технологический процесс изготовления полупроводниковой микросхемы с использованием эпитаксиально-планарной технологии", Вы можете повысить уникальность этой работы до 80-100%