Исследование процесса ассистируемого фильтруемого вакуумно-дугового осаждения наноструктурированных многослойных покрытий. Параметры покрытий, включающие состав, структуру, толщину, твёрдость, адгезию по отношению к субстрату в зависимости от условий.
При низкой оригинальности работы "Разработка процесса ассистируемого фильтруемого вакуумно-дугового осаждения", Вы можете повысить уникальность этой работы до 80-100%
Разработка процесса ассистируемого фильтруемого вакуумно-дугового осажденияРазработана феноменологическая (физическая) модель процесса вакуумно-дугового осаждения покрытий, ассистируемого высокоэнергетическими ионами (AFCVAD), позволяющая прогнозировать свойства формируемых покрытий на основе бинарных соединений. При использовании комбинированных процессов воздействия (модификации) поверхностей режущего инструмента, когда интегрируются эффекты целенаправленной бомбардировки высокоэнергетическими ионами и процессы ионно-плазменного осаждения покрытия, возможно формирование таких его свойств, которые не могут быть получены с помощью стандартных процессов [1-6]. направленное формирование определенной морфологии поверхности покрытия посредством воздействия на процесс его формирования или на дефекты кристаллической решетки позволяет создавать всевозможные высокоэффективные структуры, например аморфные структуры; смешивание материалов покрытия и субстрата в граничной зоне путем бомбардировки высокоэнергетическими ионами инициирует граничную диффузию и позволяет формировать прочные адгезионные связи в системе «покрытие - субстрат». При ионной имплантации происходит бомбардировка поверхности субстрата или покрытия частицами (ионами) с достаточно высокой энергией, что приводит к изменениям в переходной зоне субстрат/покрытие или в самих субстрате и покрытии.
Вы можете ЗАГРУЗИТЬ и ПОВЫСИТЬ уникальность своей работы
