Обоснование параметров светового воздействия ксенонового и ртутного источников света на клеточные структуры сетчатки. Подбор светофильтра, экранирующего культуры клеток ретинального пигментного эпителия человека от повреждающего действия источников света.
При низкой оригинальности работы "Профилактика фототоксического действия эндовитреальных источников света (экспериментальное исследование)", Вы можете повысить уникальность этой работы до 80-100%
АВТОРЕФЕРАТ диссертации на соискание ученой степени кандидата медицинских наук Профилактика фототоксического действия эндовитреальных источников света (экспериментальное исследование)Работа выполнена в Федеральном государственном бюджетном учреждении «Межотраслевой научно-технический комплекс «Микрохирургия глаза» имени академика С.Н. Научные руководители: доктор медицинских наук Борзенок Сергей Анатольевич доктор биологических наук Сабурина Ирина Николаевна Официальные оппоненты: Балашевич Леонид Иосифович Доктор медицинских наук, профессор. Защита состоится «9 » декабря 2013 г. в 14 часов на заседании диссертационного совета по защите докторских диссертаций Д.208.014.01 при ФГБУ «МНТК «Микрохирургия глаза» им. акад. С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке ФГБУ «МНТК «Микрохирургия глаза» им. акад.В плотном компактном сфероиде клетки РПЭ сохраняют поляризацию, характерную для эпителиальных тканей, экспрессируя на поверхности ламинин и коллаген, посредством которых хорошо защищены от разного рода воздействий, что кардинально отличает эту культуру от монослойных (2D) культур РПЭ. 2.Исследовать фототоксическое действие ксенонового и ртутного источников света на 2D культуру ретинального пигментного эпителия человека и сфероидную 3D культуру ретинального пигментного эпителия человека. 3.Подобрать экспериментальным путем светофильтр, экранирующий культуры клеток ретинального пигментного эпителия человека от повреждающего действия ксенонового и ртутного источников света. Спектр предложенного светофильтра приближен к спектру пропускания естественного хрусталика человека с характерной точкой 50-ти % пропускания на ? 450 нм, практически не ослабляет свет в основной видимой области ? 500 - 700 нм, а так же ослабляет свет в области фототоксического повреждения (при ? 400 - 500 нм) на 30% и может быть рекомендован для применения в хирургическом осветительном оборудовании «Photon II» и «Accurus 800DS», а также в других осветителях любого типа нового поколения со сходными характеристиками светового потока. 1.На основании физических методов исследования определен диапазон спектра светового воздействия ксенонового и ртутного источников эндовитреального освещения на клетки ретинального пигментного эпителия человека, которые индуцируют фототоксический эффект, но которые не нивелируются встроенными светофильтрами.При этом освещенность, создаваемая ртутным источником равна 12000 Лк, а ксеноновым - 6000 Лк; при этом мощность излучения ртутного источника в синей полосе пропускания 400-500 нм в 1,3 раза превышает таковую ксенонового осветителя, что требует нейтрализации путем подбора соответствующего светофильтра. 2.Методом морфометрического исследования 2D и 3D культур ретинального пигментного эпителия человека определена безопасная экспозиция работы ртутного и ксенонового осветителей в штатных режимах с расстоянием световода в 5 мм при облучении в пределах 24 Дж, которая составляет не более 30 мин (в обоих случаях показатель гибели клеток не превышал 0%); после 40 мин освещения показатель гибели клеток составил: в культуре 2D ретинального пигментного эпителия для ртутного источника 1,69% (в контроле без облучения 0,35%), для ксенонового источника - 1,72% (в контроле без облучения 0%), в культуре 3D ретинального пигментного эпителия показатель гибели клеток не превышал 0%. 3.В эксперименте на 2D и 3D культурах ретинального пигментного эпителия человека показана высокая эффективность светозащитного действия подобранного расчетным путем светофильтра с характерной точкой 50%-ного пропускания на длине волны 450 нм: в 2D культуре после 40 мин экспозиции ртутным источником освещения показатель гибели клеток составил 0,32% (в контроле без облучения - 0,62%), ксеноновым источником освещения - 1,3% (в контроле без облучения - 0%), в 3D культуре показатель гибели клеток не превышал 0%. 4.Электронно-микроскопическое исследование ультраструктуры клеток ретинального пигментного эпителия человека в 3D культуре, максимально приближенной к морфофункциональному эквиваленту нативной сетчатки, после облучения ртутным и ксеноновым осветителями после 40 мин экспозиции у 50% экспериментальных образцов выявило наличие типичных признаков апоптоза I и II стадий; в эксперименте со светофильтром и в контроле без облучения морфологических признаков апоптоза в клетках ретинального пигментного эпителия 3D культур не выявлялось.
Вы можете ЗАГРУЗИТЬ и ПОВЫСИТЬ уникальность своей работы