Проведение исследований, направленных на повышение плотности тока (не менее 0,1 А/см2), генерируемого плазменным источником ленточного пучка электронов в форвакуумной области давлений, достаточной для поверхностной обработки и плавки ряда материалов.
При низкой оригинальности работы "Форвакуумный плазменный источник с повышенной плотностью тока на основе разряда с протяженным полым катодом", Вы можете повысить уникальность этой работы до 80-100%
АВТОРЕФЕРАТ диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наукФормирование пучка осуществляется за счет эмиссии электронов из разряда с полым катодом в остаточной атмосфере вакуумной камеры без использования напуска газа и системы дифференциальной откачки. Установлено, что для источников ленточных электронных пучков на основе разряда с полым катодом, функционирующих в форвакуумной области давлений, повышение плотности тока пучка путем уменьшения ширины выходной щели катодной полости имеет ограничение, связанное с возникновением неустойчивости токопрохождения в разрядном промежутке. Показано, что для форвакуумных плазменных источников электронов плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обеспечивает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени электронным пучком, открывая тем самым возможность непосредственной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов. Для плазменных источников ленточных пучков электронов, функционирующих в форвакуумной области давлений, повышение плотности тока пучка путем уменьшения ширины выходной апертуры катодной полости имеет ограничение, связанное с возникновением неустойчивости токопрохождения в разрядном промежутке, обусловленной самопроизвольным локальным раскрытием ионных оболочек в апертуре полости и возникновением так называемых «струйных структур тока», приводящих к резкому нарушению однородности концентрации плазмы вблизи эмиссионной поверхности, а, следовательно, и к существенной неравномерности распределения плотности тока пучка по его сечению. Вторая глава «Неустойчивости в разрядной системе с протяженным полым катодом форвакуумного плазменного источника электронов» посвящена вопросам получения однородной протяженной плазмы с повышенной плотностью в разряде с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений.
Вы можете ЗАГРУЗИТЬ и ПОВЫСИТЬ уникальность своей работы
