Общая характеристика основных методов нанесения вакуумных покрытий. Генерация потока осаждаемого вещества термическим испарением. Электронно-лучевое лазерное испарение. Образование плёнок испаряемого материала на элементах электронно-оптической системы.
Аннотация к работе
Классификация и общая характеристика основных методов нанесения вакуумных покрытий Генерация потока осаждаемого вещества термическим испарением Резистивное испарение Индукционное испарение Электронно-лучевое испарение Импульсное лазерное испарение Напыляемые материалы Поверхность твёрдого тела Неоднородности поверхности Заключение Список использованной литературы Введение Нанесение тонкоплёночных (одно- или многокомпонентных) покрытий в вакууме позволяет создавать материалы с различными свойствами. Хотя основные закономерности испарения и конденсации для обеих групп во многом совпадают, для второй группы характерно различие концентраций компонентов в конденсате и испаряемом соединении, обусловленное частичной или полной диссоциацией вещества в процессе испарения. Нанесённые покрытия обладают высокой прочностью сцепления, большой контактной прочностью и износостойкостью, высоким сопротивлением коррозии, жаростойкостью и жаропрочностью.