Перспективы методов контроля оптической толщины покрытий различного функционального назначения. Контроль толщины оптических покрытий на основе тугоплавких оксидов формируемых методом электронно-лучевого синтеза. Расчёт интерференционных покрытий.
Аннотация к работе
1. Современные методы контроля толщины в процессе формирования покрытий оптического назначения 1.1 Состояние и перспективы методов контроля оптической толщины покрытий различного функционального назначения 1.2 Фотометрические методы определения оптической толщины тонких покрытий 1.3 Системы контроля оптических характеристик на основе современной компьютерной диагностики 2. Контроль толщины оптических покрытий на основе тугоплавких оксидов формируемых методом электронно-лучевого синтеза 2.1 Фотометрическая система контроля СФКТ-751В 2.2 Встраиваемая система контроля оптических характеристик Iris-0211 2.3 Синтез однослойных и многослойных покрытий и контроль их оптической толщины 3. Исследование спектральных характеристик многослойных покрытий на основе тугоплавких оксидов и определение их оптических параметров 3.1 Определение фотометрических параметров однослойных и многослойных покрытий на основе тугоплавких оксидов 3.2 Контроль оптических характеристик с помощью спектрального эллипсометра ESM 512 3.3 Програ