Технологии, связанные с нанесением тонкопленочных покрытий. Расчет распределения толщины покрытия по поверхности. Технологический цикл нанесения покрытий. Принципы работы установки для нанесения покрытий магнетронным методом с ионным ассистированием.
Аннотация к работе
1. Физические основы метода 1.1. Метод магнетронного напыления покрытий с ионным ассистированием 1.2.Ионная очистка 2. Расчет распределения толщины покрытия по поверхности образцов 3. Методика эксперимента 3.1. Описание установки 3.2. Технологический цикл нанесения покрытий 3.3. Результаты и их обсуждение Заключение Список используемой литературы Введение Технологии, связанные с нанесением тонкопленочных покрытий, являются одними из наиболее актуальных направлений получения новых материалов, в том числе наноструктурных. Хорошим примером важности применения тонкопленочных покрытий являются полупроводниковая, оптическая промышленности и водородные технологии в энергетике. Высокие темпы развития этих наукоемких отраслей требуют непрерывного повышения качества и эксплуатационных свойств покрытий. Реализация этих требований напрямую зависит от достижений в разработке и конструировании оборудования и совершенствования технологий получения тонких пленок. В настоящее время наиболее перспективными методами нанесения