Технология электронно-лучевой обработки конструкционных материалов. Электронно-лучевая плавка и сварка металлов. Лазерная обработка материалов и отверстий. Ионно-лучевая обработка материалов. Ионно-лучевые методы осаждения покрытий и ионная литография.
Аннотация к работе
Электронно-лучевая обработка осуществляется в вакууме при наличие специального оборудования: технологической камеры с вакуумной системой и электронной пушки с высоковольтным источником питания. Электронно-лучевые технологические установки состоят из двух основных комплексов: энергетического и электромеханического, К энергетическому комплексу относится аппаратура, предназначенная для формирования пучка электронов с заданными параметрами управления его мощностью и положением в пространстве. При электронно-лучевом испарении испаряемая поверхность непосредственно нагревается бомбардирующими ее электронами. 2.1 - Принцип электронно-лучевого испарения материалов: 1 - электронная пушка; 2 - электронный пучок; 3 - поверхность, бомбардируемая пучком; 4 - кожух технологической камеры; 5 - водоохлаждаемый тигель; 6 - испаряемый материал; 7 - расплавленная часть материала; 8 - поверхность испарения; 9 - откачка вакуума; 10 - диафрагма испарителя; 11-поток пара; 12 - напыляемый слой; 13 - подложка; 14 - подогреватель подложки В основных чертах установка для электронно-лучевого испарения состоит из технологической камеры с системой откачки, тигля с испаряемым материалом, электронной пушки, заслонки для пара и подложки с приспособлениями для ее крепления, а иногда - нагрева.
План
Содержание
Введение
Электронно-лучевая обработка материалов
Технология электронно-лучевой обработки конструкционных материалов
Испарение материалов
Электронно-лучевая плавка металлов
Электронно-лучевая сварка
Лазерная обработка материалов
Лазерная поверхностная обработка
Лазерная резка
Лазерная обработка отверстий
Ионно-лучевая обработка материалов
Ионное легирование
Ионно-лучевые методы осаждения покрытий и ионная литография