Химическая стадийность образования композиции Si3N4–TiN в режиме СВС с использованием азида натрия и галоидной соли титана. Реакции азотирования элементного кремния и атомарного титана. Исследования микроструктурных превращений методами микроскопии.
Аннотация к работе
Химическая стадийность и структурообразование композиции Si3N4-TIN, синтезированной в режиме СВС-АзВ работе рассмотрена химическая стадийность образования композиции Si3N4-TIN в режиме СВС с использованием азида натрия и галоидной соли титана (NH4)2TIF6. Исследовано структурообразование композиции Si3N4-TIN и установлено, что продукт, синтезированный из системы «9Si (NH4)2TIF6 6NAN3» представлял собой чистую, без побочных примесей, смесь нанокристаллических равноосных частиц TIN (28 %), нанокристаллических волокон ?-Si3N4 (11 %) и субмикрокристаллических столбчатых кристаллов ?-Si3N4 (61 %). The structure formation of the composition Si3N4-TIN is studied and it is established that the product synthesized from the system “9Si (NH4)2TIF6 6NAN3” is a pure mixture of nanocrystalline equiaxial particles without side impurities TIN (28 %), nanocrystalline fibers ?-Si3N4 (11 %) and submicrocrystalline column crystals ?-Si3N4 (61 %). Первоначально для изучения механизма и химической стадийности образования композиции Si3N4-TIN были выбраны из всех исследуемых систем наилучшие по выходным данным (по фазовому и количественному составу) конечные продукты [1, С. Для установления стадийности образования композиции «нитрид кремния - нитрид титана» в системе «9Si (NH4)2TIF6 6NAN3» в процессе горения в интервале температур 500-600 °С и 900-1000 °С была произведена закалка и сделан рентгенофазовый анализ (РФА), который показал, что продукты синтеза состоят из нитридов (TIN, ?-Si3N4, ?-Si3N4), галоидных солей (TIF4, Na2TIF6, NAF) и чистых химических элементов (Ti, Si, Na).